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芯片巨頭英特爾宣布其PowerVia技術(shù)實現(xiàn)芯片背面供電

來源:| 發(fā)布日期:2023-06-06 13:46

6月6日消息,據(jù)英特爾方面消息,其在產(chǎn)品級測試芯片上實現(xiàn)背面供電(backside power delivery)技術(shù),以滿足邁向下一個計算時代的性能需求。

據(jù)介紹,作為英特爾的背面供電解決方案,PowerVia將于2024年上半年在Intel 20A制程節(jié)點上推出。通過將電源線移至晶圓背面,PowerVia解決了芯片單位面積微縮中日益嚴(yán)重的互連瓶頸問題。

英特爾技術(shù)開發(fā)副總裁Ben Sell表示,“英特爾正在積極推進(jìn)‘四年五個制程節(jié)點’計劃,并致力于在2030年實現(xiàn)在單個封裝中集成一萬億個晶體管,PowerVia對這兩大目標(biāo)而言都是重要里程碑。通過采用已試驗性生產(chǎn)的制程節(jié)點及其測試芯片,英特爾降低了將背面供電用于先進(jìn)制程節(jié)點的風(fēng)險,將背面供電技術(shù)推向市場。”

據(jù)悉,英特爾將PowerVia技術(shù)和晶體管的研發(fā)分開進(jìn)行,以確保PowerVia可以被妥善地用于Intel 20A和Intel 18A制程芯片的生產(chǎn)中。在與同樣將與Intel 20A制程節(jié)點一同推出的RibbonFET晶體管集成之前,PowerVia在其內(nèi)部測試節(jié)點上進(jìn)行了測試,以不斷調(diào)試并確保其功能良好。英特爾方面稱,經(jīng)在測試芯片上采用并測試PowerVia,證實了這項技術(shù)確實能顯著提高芯片的使用效率,單元利用率(cell utilization)超過90%,并有助于實現(xiàn)晶體管的大幅微縮,讓芯片設(shè)計公司能夠提升產(chǎn)品性能和能效。